Kirjeldus

Tehnilised parameetrid

Tantaaltiigli roll elektronkiire aurustamisel

E-kiire allikate tantaaltiglid on täppis-konstrueeritud mahutid, mida kasutatakse elektronkiire aurustussüsteemides, kus kõrge termiline stabiilsus ja ülimadal gaasieraldus on vaakumi terviklikkuse ja sademe puhtuse säilitamiseks hädavajalikud.

E-kiirsadestamise korral aurustab fokuseeritud elektronkiir tiigli sees lähtematerjali ja tekkiv aur kondenseerub õhukeste kiledena substraatidele. Tantaal on valitud, kuna selle kõrge sulamistemperatuur võimaldab tulekindlate metallide (nt W, Mo, Ta ise) ja oksiidide aurustumist ilma tiigli purunemiseta. Selle madal aururõhk töötemperatuuridel (<10⁻⁸ Pa at 2500 °C) prevents crucible material from contaminating the deposited film. Additionally, tantalum's low outgassing rate (<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²) helps sustain UHV conditions (<10⁻⁷ Pa) crucial for high‑performance optics and semiconductor coatings.

Kinnisvara	Väärtus / vahemik	Tähtsus E-Beam allika töös
Sulamistemperatuur	3017 kraadi	Võimaldab kõrge sulamistemperatuuriga-materjalide aurustamist
Aururõhk @ 2500 kraadi	<10⁻⁸ Pa	Kõrvaldab tiigli aurude saastumise
Gaaside väljutamise määr (UHV)	<10⁻⁹ Torr·L/s·cm²	Säilitab vaakumkvaliteedi puhaste sademete jaoks
Soojusjuhtivus	57 W/m·K	Tagab ühtlase kuumenemise ja vähendab kuumaid kohti

E-Beam tantaaltiiglite disainilahendused

Tiiglid on valmistatud õhukeste seintega (1–3 mm), et maksimeerida soojusülekannet elektronkiirelt, minimeerides samal ajal salvestatud soojusmassi. Geomeetria on sageli silindriline ümara põhjaga, et vältida teravaid nurki, kus sulamaterjal võib kohapeal seiskuda või üle kuumeneda. Suure -energiaga elektronide tekitatud kahjustuste vältimiseks on mõnel konstruktsioonil vesijahutusega ümbrised või elektronide löögi ühtlaseks jaotamiseks kohandatud tera orientatsiooniga tiiglid.

Tööstuslikuks kasutamiseks mõeldud karbid E-Beam tantaaltiiglitele

Optiline kate– TiO₂, Al₂O₃ ja SiO₂ aurustamine läätsede ja laserpeeglite puhul, mis nõuavad kõrget murdumisnäitaja kontrolli.

Mikroelektroonika– Barjäärikihtide (nt TaN) ja omavahel ühendatud metallide ladestamine, kus puhtus mõjutab otseselt seadme töökindlust.

Kuvamistehnoloogia– Indiumtinaoksiidi (ITO) ühtlane aurustamine läbipaistvate juhtivate katete jaoks.

Nende ühilduvus automatiseeritud etteandesüsteemidega ja pikk kasutusiga muudavad need standardseks suure läbilaskevõimega katmiskambrites arhitektuurse klaasi, täppisoptika ja täiustatud elektrooniliste substraatide jaoks.

Evaporation material 99.95% 3N5 tantalum crucible for electron beam evaporator

Aurustusmaterjal 99,95% 3N5 tantaaltigil elektronkiire aurusti jaoks

Tantalum Parts Processing Plant Customized Different Size Bright Grey tantalum Crucible For Melting Process Parts

Tantaaliosade töötlemise tehas, mis on kohandatud erineva suurusega helehall tantaaltiigel protsessiosade sulatamiseks

Customized R05200 Ta 99.95% Pure Polished Tantalum Crucible tantalum carbide per kg price

Kohandatud R05200 Ta 99,95% puhas poleeritud tantaaltiigel tantaalkarbiid kg hind

Kuum tags: tantaaltiiglid e-kiireallikate jaoks, Hiina tantaaltiglid e-kiireallikate tootjad, tarnijad, tehas

Tantaaltiiglid E{0}}kiireallikate jaoks

Tantaaltiigli roll elektronkiire aurustamisel

E-Beam tantaaltiiglite disainilahendused

Tööstuslikuks kasutamiseks mõeldud karbid E-Beam tantaaltiiglitele